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真空镀膜
真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料,使其蒸发并凝结于镀件(金属、半导体或绝缘体)表面而形成薄膜的一种方法。例如,真空膜,真空镀铝、真空镀铬等。





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真空镀膜优点
3.在间断式(或称批量式)蒸镀金属法中,昆山收缩膜,众所周知其所镀金属的浪费很大,约75%是浪费的。这不但将有用金属,形同废料;而且如前所述在清除一炉生产后剩留于炉中和真空室中的残留物亦颇费周折。与此相反,昆山真空膜,由于该种设备将在条状材和柑祸之间的金属蒸汽通道设计、制造成有罩式的,可将未蒸镀完的金属蒸汽再循环至柑祸处(不使流散于别处)重复回收使用。
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真空镀膜优点
2.由于该种设备采用了迥异于批量式镀金属法中常采用的多个分开的短形金属蒸发舟皿式柑祸的长型整体式增祸;因此蒸镀在被镀条状材的金属膜层上和前者相比在相同蒸发条件下所镀积的厚度较均匀。
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